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          關于我們

           

           

          北京坤星元科技有限公司成立于2014年,是一家專業生產以多材質、高純度PVD濺射靶材、金屬粉末和蒸發鍍膜材料的專業技術創新企業。公司本著專業、優質、高效的經營理念,經過多年來逐步發展成為一家極具競爭力和創造力的新型公司,憑借自身優質產品,專業的服務以及良好的商業信譽,成為眾多企業及科研單位指定的材料提供商。


          公司廠區環境優美,生產車間環境完全按照ISO質量體系標準條件建設,公司目前擁有多臺/套先進自動化生產機器、各類型檢驗檢測儀器設備,可根據您的需求提供各種尺寸、不同純度金屬、合金靶材以及金屬粉末,年生產能力可達到100+噸靶材加工。公司始終堅持以優良的服務質量,嚴格、有效的質量管理體系,全方位保證我司產品優質、安全,達到客戶滿意度,我們產品遠銷至德國、日本、臺灣等國家和地區以及包括國內科研軍工、新科技公司等多家企事業單位。

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          產品中心

          根據您的需求提供各種尺寸、不同純度金屬、合金靶材,年生產能力可達到100噸靶材加工。

           

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          PRODUCT CENTER

           

          質量保證

          QUALITY ASSURANCE

           

          質量保證

          專業化、定制化、高端化、智能化

          嚴格執行貫徹ISO9001:2015質量管理標準

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          技術實力

          TECHNICAL STRENGTH

           

          精心制造,提供優質產品;及時交貨,保證客戶滿意

           

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          產品中心

          鉻靶 Chromium target

          公司生產的鉻靶材采用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶、環形靶和大長徑比整體成形管靶等類型,具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優點。Ourchromiumtargetincludingrectangulartarget,arctarget,ringtargetandlargeaspectratiointegralformingtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressingtechnologyandhastheadvantagesofcontrollablepurityanddensity,fineanduniformgrainsizeandlongservicelife.?鉻靶Chromiumtarget性能Productperformance純度/%Purity?????99.599.95密度/g/cm3Density??????≥7.12≥7.12晶粒度/μmGrainsize??????≤100≤100金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities???????≤5000≤500熱導率/W/m.KThermalconductivity??????60100熱膨脹系數/1/KCoefficientofthermalexpansion????????8×10-68×10-6規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget≤1500×500≤1500×500旋轉靶Rotatingtarget熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤15熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤152N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤1500≤1200≤1500≤200≤50≤1400≤300測試值(Testvalues)98030060062501200200??2N8??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤800≤300≤400≤200≤50≤1000≤100測試值(Testvalues)7407892845034030??3N??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤500≤100≤150≤150≤30≤500≤100測試值(Testvalues)2904780902845050?3N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)銅(Cu)鎳(Ni)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤100≤50≤50≤10≤50≤50≤30≤150≤80測試值(Testvalues)504540710242713730?附上鉻矩形靶、圓弧靶和環形靶照片

          鉻管靶 Chromium tube target

          鉻管靶可加工成熱等靜壓(HIP)整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶,兩種鉻管靶相比,熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質量好等優點,缺點成本較高。Comparedwiththesprayingchromiumtubetarget,theintegralformingchromiumtubetargetbyHIPhastheadvantagesoflowoxygencontent,highdensity,uniformandcompactcoatingandsoon.?性能Productperformance噴涂鉻管靶材Sprayingchromiumtubetarget熱等靜壓整體成形鉻管靶材IntegralformingchromiumtubetargetbyHIP氧含量/ppmOxygencontent≤500080-1500鍍膜均勻性Depositionuniformity1.????整管軸向致密度相差較大2.????整爐上中下L、A、B值相差較大3.????無法保證產品膜層的一致性1.????Thedensityofthetubetargetalongtheaxialisdifferent.2.????ThevalueofL,AandBisdifferentinthewholefurnace.3.????Theconsistencyoftheproductfilmcannotbeguaranteed1.????整管均勻性高2.????密度接近于純金屬熱擠壓密度,管材通體密度一致3.????無松散區、無暗區4.????PVD膜層的厚度及顏色的一致性好5.????整爐上中下L、A、B值統一性好1.????Highuniformityofthewholetube2.????Thedensityofthewholetubetargetisclosetohotextrusiondensityandisconsistent3.????Nolooseareaanddarkarea4.????TheconsistencyofthethicknessandcolorofthePVDfilmisgood4.????ThevaluesofL,AandBinthewholefurnacearegood.5.????ThevalueofL,AandBisconsistentinthewholefurnace.鍍膜電流密度Depositioncurrentdensity無法實現大電流長時間工作Cannotworkforalongtimeatlargecurrent大功率長時間穩定工作Cansteadilyworkforalongtimeunderhighpower??附上鉻管靶照片(1張照片)

          氧化鈮靶 Niobium oxide target

          公司生產的氧化鈮靶材采用先進的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。Ourniobiumoxidetargetincludingrectangulartarget,arctargetandtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressing,hotpressing,andthermalsprayingtechnology.OurniobiumoxidetargetbyHIPhasbeenappliedforChineseinventionpatentwithindependentintellectualpropertyrights.ThepatentnumberisCN105734506A.??氧化鈮靶Niobiumoxidetarget性能Productperformance化學成分/at%CompositionNb2Ox,x=4.5~4.8純度/%Purity99.99密度/g/cm3Density≥4.5晶粒度/μmGrainsize≤5金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities≤100電阻率/Ω.cmResistivity5×10-4規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget熱等靜壓/熱壓,≤500×250Hotisostaticpressing/Hotpressing旋轉靶Rotatingtarget熱噴涂成形thermalspraying長度Length≤4000厚度Thickness≤10

          六硼化鑭 Lanthanum boride

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          濺射靶材的應用
          北京坤星元科技有限公司
          ?使用大量靶材的行業主要包括半導體集成電路,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質,光學器件等(這些材料按用途分類)。 其中,高純度濺射靶材主要用于材料的純度。要求更高穩定性的領域,例如半導體,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質等。在所有應用中,半導體對濺射靶材具有較高的技術要求和純度,并且它們也是較昂貴的。 在這方面的要求明顯高于其他應用領域,如平板顯示器和太陽能電池。 在純度,內部微結構等方面設定
          高純鉻靶的發展前景
          北京坤星元科技有限公司
          ?高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,靶材材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細粒靶材的濺射速率比粗粒高純度鉻靶材的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊中沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而導致雜質顆粒。 另外,由于其密度低,帶
          鉻靶的應用領域
          北京坤星元科技有限公司
          ?鉻靶材料的技術發展趨勢與下游應用行業薄膜技術的發展趨勢密切相關。 隨著應用行業中薄膜產品或組件技術的進步,鉻靶目標技術也應隨之改變。微電子領域:在所有應用行業中,半導體行業對目標濺射膜鉻靶的質量要求較為嚴格。 現在,已經制造出12英寸(300插槽)的硅晶片。 但是,互連線的寬度正在減小。鉻靶價格、鉻靶批發制造商對鉻靶的要求是大尺寸,高純度,低偏析和細晶粒,這要求所制造的鉻靶具有更好的微觀結構。
          高純鉻靶的發展前景
          北京坤星元科技有限公司
          高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在

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          以優秀的設計團隊和優良的生產設備,為顧客提供卓越產品和超值服務

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